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全球半导体业最新一次重大并购近期触发。据国外媒体报道，芯片制造设备商Lam Research已经同意以33亿美元的价格收购Novellus Systems，它打算将两家公司的芯片制造设备业务整合在一起，挑战市场领袖应用材料(Applied Materials)。这项声明的发布日期与市调机构Gartner发布的2012年半导体设备成长将衰退20%的预估报告恰巧为同一天。不过对于这次半导体设备行业内的最新一次重大并购案，业界还是持关注态度。
Lam Research今日发表声明称，这项收购交易给予N
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Novellus 晶圆 芯片制造设备
美国半导体设备大厂Novellus Systems, Inc. 11日在美国股市收盘后公布2011年第2季财报：营收年增9%(季减15.2%)至3.502亿美元;每股稀释盈余自去年同期的0.66美元升至0.79美元。根据FactSet的调查，分析师原先预期Novellus第2季营收、本业每股盈余各为3.523亿美元、0.76美元。
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Novellus 智能手机
半导体设备大厂Novellus Systems于12日公布第2季(4-6月)财报：营收年增169.6%(季增16.3%)至3.214亿美元;每股稀释盈余达0.66美元，优于1-3月的0.43美元。根据Thomson Reuters的调查，分析师原先预期Novellus 4-6月营收、本业每股稀释盈余各为3.12亿美元、0.60美元。
Novellus 4-6月接单金额季增19.8%至3.849亿美元;出货金额季增17.4%至3.321亿美元。Novellus执行长Richard S. Hill指
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Novellus 半导体设备
半导体设备制造商Novellus Systems日前公布了较预期严重的亏损，在截至6月27日止的第二季净亏5000万美元或稀释後每股亏损0.52美元;该公司2008年第二季亏损240万美元或每股0.02美元。
但扣除特殊项目后，Novellus亏损为3,930万美元或每股0.41美元。特殊项目包括1,590万美元裁员费用和缩减部分业务的支出等。
根据Reuters Estimates，分析师原平均预估该公司每股亏损0.38美元。
Novellus营收较上年同期锐减54%至1.192亿
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Novellus 半导体设备
半导体产业的低谷挡不住技术前进的脚步。近期两大设备厂商Applied Materials和Novellus相继推出了新型PVD机台，目标均锁定为32nm及更小的技术节点。
5月28日，设备巨头Novellus宣布开发出HCM(中空阴极磁电管)PVD技术，称为IONX XL。该机台可满足3Xnm技术节点的薄阻挡层淀积，主要的服务对象为存储器制造厂商。由于在3Xnm节点，存储器的CD相比逻辑器件要小30%，存储器的铜互连中将更多的采用高深宽比的结构，这为阻挡层和晶籽层的台阶覆盖性带来了挑战。
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Novellus 半导体 PVD 32nm
诺发公司的VECTOR系统凭借其技术创新和高效生产力被评为最佳CVD产品 诺发系统有限公司(Novellus Systems, Inc., Nasdaq股票代码：NVLS)宣布，该公司的VECTOR®系统在台积电2006供应链管理论坛上获得TSMC颁发的“2006年度优秀CVD供应商奖”。350多家TSMC供应商参加了这次活动，诺发公司是获得“2006年度优秀供应商奖”殊荣的十一家公司之一。诺发公司的VECTOR 300mm等离子增强化学气相淀积
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Novellus Systems公司（Nasdaq NM代码：NVLS）于发布了用于300-mm晶圆生产的化学机械研磨（CMP）平台，满足并超越了65nm及其以下规格标准的技术和经济需求。Xceda 完全是为了应对新一代多层铜/低k结构中的平面化挑战而设计的，通过将溶剂利用率提高到40%，极大地减小了总拥有成本（CoO）。 Novellus Systems总裁 Sass Somekh博士表示：“我们深信Xceda所提供的核心技术将引领我们扩展到32-nm技术标准，而无需对平台进行分裂性的改进。事实上，近期
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